Erbiumfluorid

Produktname: Erbiumfluorid

Produkt-Spitznamen: Erbiumfluoridkristall, Erbiumtrifluorid, wasserfreies Erbiumfluorid, hochdichtes wasserfreies Erbiumfluorid

Chemische Formel: ErF3

CAS-Nummer: 13760-83-3

EINECS-Nummer: 237-356-3

Reinheit: 3N/4N/5N

Aussehen: rosarotes Kristallpulver

Molekulargewicht: 224,25

Schmelzpunkt: 1350 Grad

Siedepunkt: 2200 Grad

Dichte: 7,814 g/cm3

Löslichkeit: Unlöslich in Wasser, Salzsäure, Salpetersäure und Schwefelsäure, aber löslich in Perchlorsäure

Produktionsstandard: XB/T 240-2023

Verpackung: in Plastikflaschen, ausgekleidet mit Plastiktüten und gefüllt mit Argongas zum Schutz oder nach Kundenwunsch

1. Vorbereitung der Nassmethode:

Verfahren zur Ausfällung von Flusssäure und zur Vakuumdehydratisierung. Überschüssige Flusssäure zu Erbiumchlorid oder Erbiumnitrat hinzufügen und die wässrige Lösung verdampfen, konzentrieren, abkühlen und auf einem Wasserbad kristallisieren, um Erbiumtrifluoridhydrat herzustellen. Anschließend wird es im Vakuum erhitzt, um das Kristallwasser zu entfernen.

2. Ammoniumbifluorid-Fluorierungsverfahren;

3. Trockenaufbereitung:

Es wird durch Reaktion mit wasserfreiem Fluorwasserstoffgas und Seltenerdoxiden hergestellt.

Es wird für optische Beschichtungen, optische Faserdotierung, Laserkristalle, Einkristallrohstoffe, Laserverstärker, katalytische Additive, die Herstellung von metallischem Erbium und Legierungen usw. verwendet.

Erbiumfluorid-Dünnschichtkristall

In der Weltraumoptik, der optischen Kommunikation, Spektrometern, Lasern und anderen großen optischen Systemen spielen optische Filme und Geräte eine sehr wichtige Rolle. Gleichzeitig stellen die Anwendungen in diesen Bereichen auch viele strenge Anforderungen an die optischen, physikalischen und chemischen Eigenschaften optischer Dünnfilme. Beispielsweise wird bei den optischen Eigenschaften gefordert, dass das Beschichtungsmaterial einen geeigneten spektralen Transmissionsbereich und Brechungsindex sowie eine ausreichend kleine Absorption im Transmissionsbereich aufweist. Im Hinblick auf die mechanische und chemische Stabilität müssen Beschichtungsmaterialien stabile mechanische Eigenschaften aufweisen, unempfindlich gegenüber Umweltveränderungen, geringer innerer Spannung und wenigen inneren Defekten sein. Bei den derzeit verwendeten infrarotoptischen Dünnschichtmaterialien sind die Materialien, die die oben genannten Anforderungen erfüllen können, begrenzt, insbesondere im langwelligen Infrarotbereich gibt es weniger stabile Dünnschichtmaterialien mit niedrigem Brechungsindex.

Seltenerdfluorid ist ein gutes transparentes Material vom Vakuum-Ultraviolett- bis zum fernen Infrarotbereich. Im Vakuum-Ultraviolettbereich kann Seltenerdfluorid als Schicht mit hohem Brechungsindex in Ultraviolett-Dünnschichtgeräten verwendet werden, während im fernen Infrarotbereich Seltenerdfluorid auch als Schicht mit niedrigem Brechungsindex in Infrarot-Dünnschichtgeräten verwendet werden kann. In den letzten Jahren hat die Anwendung von Seltenerdfluorid in optischen Dünnschichtgeräten im Vakuum-Ultraviolett die Aufmerksamkeit vieler Forscher auf sich gezogen.

Erbiumfluorid gehört zu den lanthanidschweren Seltenerdfluoriden. Pisarska-Studien zeigen, dass die Infrarot-Grenzwellenlänge von Erbiumfluoridglas 21,74 ±0,05 μm erreichen kann, was viel höher ist als die anderer Fluoridgläser. Die Ergebnisse zeigen, dass Erbiumfluorid ein potenzielles transparentes Material mit niedrigem Brechungsindex für langwelliges Infrarot ist.

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